真空膜工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的腰体分子会产生阻力造成使结品体变得租稀无光，因此必须在高直空下才能使结品体細密光，果如真空度不高结品体就会失去光泽结合力也很差。早期真空膜是靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶將膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(成分子)沉积在基片上成膜，解决了过去自然素发无法加工的膜体品种，如钛被等等。

你中频设备心须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热因此采用中孔管做导体中间加水冷却。

(主要是圆柱靶)为什么也要用水冷却?

磁控溅射靶在发射时会产生高温会使射枪变形，因此它有一个水套来冷却射枪。同时还有一个重要原因磁控射可以被认为是腹技术中最突出的成就之一。

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