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原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造，可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形，适用于所有TEM样品杆，为适用于多种实验条件，原位芯片为科研人员提供了单窗格，多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用低应力技术（＜250MPa），氮化硅膜薄透且不易破损，非常适合于前沿的生物、材料、物理、化学等方面的研究。
产品特点
超洁净
100级洁净环境
严格选用硅衬底材料
先进的工艺水平
高强度
薄膜应力<250Mpa
薄膜最薄可至10nm
窗口大小可至2cm
超平整
粗糙度低于0.5nm
均匀性优于5%
理化稳定性优良
耐酸，耐碱，耐有机溶剂
易使用等离子体清洗
强流电子束耐受
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | |
| SG010Z | 10nm | 0.10×0.10mm | |
| SG015Z | 10nm | 0.15×0.15mm | |
| SG025Z | 10nm | 0.25×0.25mm | |
| SG050Z | 10nm | 0.50×0.50mm | |
| SG025A | 15nm | 0.25x0.25mm | |
| SG050A | 15nm | 0.5x0.5mm | |
| SG100A | 15nm | 1x1mm | |
| SG025B | 30nm | 0.25x0.25mm | |
| SG050B | 30nm | 0.5x0.5mm | |
| SG100B | 30nm | 1x1mm | |
| SG025C | 50nm | 0.25x0.25mm | |
| SG050C | 50nm | 0.5x0.5mm | |
| SG100C | 50nm | 1x1mm | |
| SG050D | 100nm | 0.5x0.5mm | |
| SG025E | 200nm | 0.25x0.25mm | |
| SG050E | 200nm | 0.5x0.5mm | |
| 每盒包含10枚芯片 | |||
—— TEM多窗格氮化硅膜 ——
多窗口阵列，衬底200um厚， 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 窗口数 | 窗口间距 | ||
| AR010Z | 10nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35nm | ||
| AR010A | 15nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35mm | ||
| AR010B | 30nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.35mm | ||
| AR010C | 50nm | 0.1x0.1mm | 9 | 0.45mm | ||
| TA015A | 15nm | 0.1x1.5mm | 2 | 0.45mm | ||
| TA015C | 50nm | 0.1x1.5mm | 2 | 0.45mm | ||
| 每盒包含10枚芯片 | ||||||
—— TEM微孔氮化硅膜 ——
微孔阵列，衬底200um厚， 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 孔径 | 阵列 | 孔心间距 | |
| ME050B | 30nm | 0.5x0.5mm | 2.8µm | 45x45 | 10µm | |
| ME050C | 50nm | 0.5x0.5mm | 2.0µm | 45x45 | 10µm | |
| ME050C10 | 50nm | 0.5x0.5mm | 10µm | 32x32 | 10µm | |
| ME050E05 | 200nm | 0.5x0.5mm | 5µm | 49x49 | 10µm | |
| 每盒包含10枚芯片 | ||||||
—— TEM纳米孔氮化硅膜 ——
微孔阵列，衬底200um厚， 3mm直径标准TEM氮化硅窗格
| 产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 孔径 | 阵列 | 孔心间距 | |
| NE005C10 | 50nm | 50×50µm | 1.0µm | 15x15 | 2.0um | |
| NE050C10 | 50nm | 0.5x0.5mm | 1.0µm | 15x15x4 | 5.0µm | |
| NE005E10 | 200nm | 50×50µm | 1.0µm | 15x15 | 2.0µm | |
| NE050E10 | 200nm | 0.5x0.5mm | 1.0µm | 15x15x4 | 5.0µm | |
| 每盒包含10枚芯片 | ||||||
