无掩膜光刻机

无掩膜光刻机概述：
 

• 显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
• 使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
• 图案可以在PC上自由创建。
• 因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜。

无掩模光刻机应用：
 

• 薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。
• 从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。
• 研发应用的图案形成。

    无掩膜光刻机参数：
 

• 由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统
• 易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案
• 通过物镜放大倍率图案，可以进行大范围的批量曝光
• 可以连接到您自己的显微镜上（选项）
• 分辨率在微米级
• 曝光范围：最大2.5mm×1.5mm    最小100um×60um
• 可以连接到您自己的显微镜上（选项）
• 分辨率在微米级
• 曝光范围：最大2.5mm×1.5mm    最小100um×60um